원리
- 가공액은 오염액 입구를 통해 연속적으로 회전체로 흘러들어가고 강한 원심력이 주어집니다.
- 고형물은 회전체 내벽에 밀어 붙여져 분리, 침전되어 쌓입니다. 회전체에 고형물이 가득차면 청정장치를 정지시키고 청소를 해야 합니다. ( 회전체의 뚜껑을 풀어내면 침전된 고형물을 손으로 쉽게 제거 할 수 있습니다.)
- 고형물이 제거된 청정액은 가공액 공급장치로 되돌아 갑니다.
용도
- 각종 공작 기계 : 가공액의 정화 및 절삭칩의 분리, 호닝머신, 건드릴 머신, 수퍼피니싱 머신, 방전 가공기, 정밀 연마기, 전해연마기, 기어 연마기, 햇다, 전용기, 세척기, 절단기, 센타레스연마기, 반도체 관련 가공장비, 기타
- 렌즈, 프리즘 가공기, 유리가공기
- 유압작동유, 냉동기 오일내의 금속가루, 녹, 모래, 슬러지, 시일파편의 제거
- 배수 1차 처리 : 도장부스 탱크내의 찌꺼기 분리, 배수중의 진흙, 모래, 기타 고형물의 제거
성능
단위 : ㎛ (제거미립자 크기) / 비중 1.4 기준
유량
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SF-20N |
SF-50N,S,A |
SF-100N,S,A |
SF-200S,A |
PSF-100A |
PSF-200A |
PSF-400A |
|
5
|
5
|
2
|
1
|
1
|
1
|
1
|
1
|
|
10
|
7
|
3
|
1
|
1
|
1
|
1
|
1
|
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20
|
10
|
5
|
2
|
1
|
2
|
1
|
1
|
|
30
|
(15)
|
7
|
3
|
1
|
3
|
1
|
1
|
|
50
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|
10
|
5
|
3
|
5
|
3
|
1
|
|
75
|
|
(15)
|
7
|
4
|
7
|
4
|
3
|
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100
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10
|
5
|
10
|
5
|
4
|
|
150
|
|
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(30)
|
7
|
(30)
|
7
|
5
|
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200
|
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|
|
10
|
|
10
|
7
|
|
400
|
|
|
|
|
|
|
10
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* 상기표는 실험값으로 분리 효과는 액의 점도, 미립자의 비중에 따라 약간 차이가 있을 수 있음.